Ilinca Fechete und Andrzej Steinbach erhalten Stipendium der Krupp-Stiftung für Zeitgenössische deutsche Fotografie 2026

Die Alfried Krupp von Bohlen und Halbach-Stiftung vergibt in Zusammenarbeit mit der Fotografischen Sammlung des Museum Folkwang zwei Stipendien für Zeitgenössische deutsche Fotografie. Eine international besetzte Jury entschied sich aus über 300 Bewerbungen für die Projektvorschläge Oram Littoris Primi Lego von Ilinca Fechete und Gesichtsmaske von Andrzej Steinbach. Fechete und Steinbach erhalten je 13.000 Euro, um die eingereichten Projekte umzusetzen.

Die Preisträger:innen
Ilinca Fechete (*2002 in Târgu Mureș, Rumänien, lebt in München) richtet in ihren transmedialen Forschungen den Blick auf verschiedene Materialitäten von Papieren, die heute nicht mehr produziert werden. Nach langwierigen Recherchen bei Herstellern und Distributoren hat sie für ihre Arbeit Kleinstmengen und Restbestände zusammengetragen. In händischen Prozessen und mithilfe eines selbstgebauten Druckers entstand der mehrteilige Werk- und Recherchezyklus Oram Littoris Primi Lego. Fechete, die 2025 bei Hito Steyerl diplomiert, wird mit dem ausgezeichneten Projektvorhaben ein neues, experimentelles, fotografisches „Buchwerk“ realisieren. Dieses soll sowohl als physisches und greifbares Objekt als auch in Form abgeleiteter, unikaler Werke für den Ausstellungsraum entstehen.

Andrzej Steinbach (*1983 in Czarnkow, Polen, lebt in Berlin) beschäftigt sich seit mehreren Jahren in fotografischen und kuratorischen Projekten mit der Semantik fotografischer Bilder. Mit teils ambivalent aufgeladenen Ausformungen forciert er seinen künstlerischen Blick darauf, wie wir auf Einzelbilder, Abfolgen und Serien von Körpern, Haltungen und Objekten schauen. Welchen Ausdruck und welche Zuschreibungen finden sich in unterschiedlichen Darstellungsformen von Figuren und Gesten? In seinem ausgezeichneten Projekt „Gesichtsmaske“ richtet Steinbach seinen Blick auf das fotografische Porträt und geht der Frage nach, ob das menschliche Antlitz in mechanischen Bildern möglicherweise der apparativen Logik von Maschinen folgt. 

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